光催化氧化

光催化机理

光催化氧化处理有机污染物一般使用纳米半导体作为催化剂，紫外线灯为光源来处理有机污染物，经过氧化进程，光催化，在抱负条件下将污染物氧化成为无害、无味的水和二氧化碳。绝大多数的光催化反响挑选纳米二氧化钛作为催化剂，光催化设备在光诱导条件下使电子由基态迁移到激发态而且产生了电子空穴，这些电子空穴具有极强的氧化性，光催化能够氧化分化吸附在催化剂微孔外表的有机污染物，一起也能使吸附在催化剂微孔外表的水和氧气转化成羟基自由基和活性氧原子，这些活性基团与挥发性有机污染物触摸氧化，光催化氧化，醉终到达将VOCS污染物去除的意图。

光催化设备在紫外线的照射下电子由基态迁移至激发态，而产生了电子空穴对，这些电子空穴具有很强的氧化性，当VOCS与光催化氧化中的催化剂的微孔外表触摸，这些污染物便被氧化分化，在抱负条件下醉终生成无害的二氧化碳和水，一起催化剂的微孔外表也与空气中的水和氧气触摸，将其转化成为羟基自由基和活性氧原子，并与VOCS触摸使其到达降解的意图。

光催化氧化

UV光催化臭氧的测定成果

在10W的UV紫外线灯，停留时间为25s，相对湿度45%，负载P25光催化设备的玻璃珠与γ-Al2O3小球为光催化反响器的填料。试验条件下，用碘量法断定光催化反响器所发生的臭氧浓度。独自运用UV所发生的臭氧浓度较高，当参加催化剂后进行光催化反响后臭氧浓度显着下降。O3浓度的减小，主要是分化效果，分化活性中心主要是负载催化剂的γ-Al2O3外表吸附的含氧基团。

在光催化反响中运用UV光源，能够显着的进步对家苯的去除率；去除功率跟着家苯初始浓度的进步而下降，跟着停留时间的增加而进步；并且在相对湿度45%-60%之间时醉适于真空紫外线对家苯的去除，光催化氧化在本试验条件下对家苯的去除率醉高到达69%。

反响中运用的商业催化剂Degussa P25 与克己的纯TiO2对家苯的处理功率附近，光催化经过0.3%铁离子改性的TiO2较以上两种催化剂对家苯的去除率有必定的提高。鉴于Degussa P25 催化剂的运用方便和价格低廉，在处理低浓度的VOCs时有较大的优势。

光催化

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光催化光强

有材料报道，光催化处理设备，光催化在低光强下速率与光强成线性关系，中等强度的光照下，速率与光强的平方根有线性关系。而光谱规模散布在250～410nm 的中压弓灯， 其降解反应速率常数是其它光源的1.4 倍以上[10]。溶液的pH 值。溶液的pH 值能改动颗粒外表的电荷，然后改动颗粒在溶液中的涣散状况。一般来说，光催化氧化跟着系统pH 值的增大，反响速率进步。但这也与被降解的有机物的结构有关。在进步光催化活性方面， 由金属或金属氧化物与半导体组成的光催化剂研讨很快。对金属在光催化系统中的效果有两种解说， 一是双功用机理，光催化废气处理设备，既影响半导体颗粒外表的能级结构（降低了带隙能），又影响催化氧化和复原反响的进程；二是单功用机理，即只影响氧化和复原反响的进程。

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