光氧催化废气处理

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原理：

在光照下，石家庄工业光氧催化处理设备，如果光子的能量大于半导体禁带宽度，其价带上的电子（e-）就会被激发到导带上，同时在价带上产生空穴（h ）。当存在合适的俘获剂、表面缺陷或者其他因素时，电子和空穴的复合得到***，工业光氧催化处理设备型号，就会在催化剂表面发生氧化还原反应。价带空穴是良好的氧化剂，导带电子是良好的还原剂，在半导体光催化反应中，

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一般与表面吸附的H2O、O2反应生成.OH和超氧离子O2-，工业光氧催化处理设备参数，能够把各种有机物直接氧化成CO2和H2O等无机小分子，工业光氧催化处理设备哪家好，电子也具有强还原性，可以还原吸附在其表面的物质。激发态的导带电子和价带空穴能重新合并，并产生热能或其他形式散发掉。本产品利用的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体，改变恶臭气体的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下

光催化氧化技术是在光化学氧化技术的基础上发展起来的。光化学氧化技术是在可见光或紫外光作用下使有机污染物氧化降解的反应过程。但由于反应条件所限，光化学氧化降解往往不够彻底，易产生多种芳香族有机中间体，成为光化学氧化需要克服的问题，而通过和光催化氧化剂的结合，可以大大提高光化学氧的效率。

根据光催化氧化剂使用的不同，可以分为均相光催化氧化和非均相光催化氧化。

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