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接触光刻技术中使用的掩模的表面特征图案的尺寸与实际掩模的尺寸相同。i在衬底上形成的图案是1∶1，并且以直接接近光致抗蚀剂层表面的方式***i光线；另一方面，缩微技术中使用的掩模具有表面特征图案的实际尺寸。i在衬底上形成的图案的几次通过光学系统投影模式***i光明。

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通过金属化过程，在硅衬底上布置一层仅数纳米厚的金属层。然后在这层金属上覆上一层光刻胶。这层光阻剂在***（一般是紫外线）后可以被特定溶液（显影液）溶解。使特定的光波穿过光掩膜照射在光刻胶上，可以对光刻胶进行选择性照射（***）。然后使用前面提到的显影液，淮安制版，溶解掉被照射的区域，这样，光掩模上的图形就呈现在光刻胶上。通常还将通过烘干措施，改善剩余部分光刻胶的一些性质。

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光刻机的结构和工作原理：

　　光刻机的光源有：激光，紫外光、深紫外光、极紫外光。现在***技术是极紫外光。

　　下图是以激光为光源的光刻机简易工作原理图：

　　在制造芯片时，首先在晶圆（硅晶片）表面涂光感胶，制版报价，再用光线透过掩模版（相当于芯片电路图纸的底片）照射硅片表面，被光线照射到的光感胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射或者未被照射的胶，制版公司，电路图就印到硅片上。

　　此过程相当于木匠施工用墨斗放样、划线。

　　硅片上有了电路图的图样后，就轮到刻蚀机登场，刻蚀机相当于木匠的锯子、斧头、凿子、刨子。刻蚀机按图施工，在硅片表面雕刻出晶体管和电路。

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