公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

在用玻璃标定板标定时候都有遇到过标定板反光问题，有时候不能用背光源，只能用前置光源，光源投射下来，玻璃本身就是反光材料，灯光一亮反光严重，甚至导致无法标定板。

光刻掩膜版材质可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。其中石英掩膜版和苏打掩膜版为高校和科研院所光刻时所常用的光刻掩膜版。

光呆板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字MASK或PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精i明确位，便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝i光的这种构造，称之为光刻掩模板。看上去制版工艺不是太复杂，但要想制作出合格的印版，确实需要操作人员用心晒版，用心加工印版。

在容栅电子光学微影技术性中，光罩表层的挡光图样会与基钢板上的光阻层触碰磨擦，非常容易促使挡光图样损耗促使光罩使用期减少。另一个，当施胶光亮阻层的基钢板表层并不是十分整平时，光罩与光阻层会造成不确定性的间隙与间距，而导致光源的光学散射与绕射，从而导致曝i光的规格偏差，而且导致光阻层浅部一部分的侧面曝i光范畴扩张，因此没法制做出深奥长宽比的光阻构造。机显时还要注意以下几点：①要定期维护显影机，以保证已***的PS版显影能正常进行。

光致抗蚀剂也被称为光致抗蚀剂。掩模板上的图案被转移到晶片表面顶层的光致抗蚀剂上，并且在后续工艺中保护下面的材料(蚀刻或离子注入)。光致抗蚀剂由光敏树脂、光引发剂、添加剂、溶剂等组成。其中，光敏树脂是光刻胶的关键成分。