公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

刻蚀或离子注入完成后，将进行光刻的后一步，即将光刻胶去除，以方便进行半导体器件制造的其他步骤。通常，半导体器件制造整个过程中，会进行很多次光刻流程。生产复杂集成电路的工艺过程中可能需要进行多达50步光刻，光刻板，而生产薄膜所需的光刻次数会少一些。

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光掩膜一般也称光罩，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过***将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成：基板和不透光材料。

作为半导体、液晶显示器制造过程中转移电路图形“底片”的高精密工具，光掩膜是半导体制程中非常关键的一环。

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掩膜板是光刻图形的基准和蓝本，掩膜板上:的任何缺陷都会对终图形精度产生严重的影响。所以掩膜板必须保持“完关”。

使用掩膜板存在许多损伤来源:掩膜板掉铬:表面擦伤，需要轻拿轻放:静电放电(ESD)，在掩膜板夹子.上需要连一根导线到金属桌面，将产生的静电导出。另外，不能用手触摸掩膜板:灰尘颗粒，在掩膜板盒打开的情况下，不准进出掩膜板室(Mask Room)，在存取掩膜板时室内保持2人。

光刻板-光刻版(图)由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）为客户提供“光电材料,光刻掩膜版”等业务，公司拥有“苏州制版”等品牌。专注于光电子、激光仪器等行业，在江苏 苏州 有一定知名度。欢迎来电垂询，联系人：马经理。