公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性***的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boa***,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。
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在刻画时,采用步进机刻画(stepper),其中有电子束和激光之分,激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画,边缘起点5mm,掩膜板,与电子束相比,其弧形更逼真,线宽与间距更小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask,也有称为中间掩膜,reticle作为单位译为光栅),用步进机重复将比例缩小到master maks上,应用到实际***中的为工作掩膜(working mask),工作掩膜由master mask复i制过来。
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机显时还要注意以下几点:①要定期维护显影机,以保证已***的PS版显影能正常进行。②在显影之前必须保持各传动辊清洁,若牵引辊不干净,显影时印版易粘上脏点。③如显影机有涂胶装置,一定注意胶辊要保持清洁,否则要弄脏印版。④一般情况下,阳图PS版显影液(原液)的显影能力为10m2/L。⑤上保护胶时,一定要均匀施胶,不能太厚,以免干后导致涂层龟裂和掉版。
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