电镀添加剂的作用机理和控制机理

电镀添加剂包括无机添加剂(如镀铜用的镉盐)和有机添加剂(如镀镍用的香豆素等)两大类。按功能分类，电镀添加剂可分为光亮剂、整平剂、应力消除剂和润湿剂等。不同功能的添加剂一般具有不同的结构特点和作用机理，但多功能的添加剂也较常见，例如糖精既可作为镀镍光亮剂，又是常用的应力消除剂;并且不同功能的添加剂也有可能遵循同一作用机理。

电镀添加剂的作用机理

金属的电沉积过程是分步进行的:首先是电活性物质粒子迁移至阴极附近的外赫姆霍兹层，进行电吸附，然后，阴极电荷传递至电极上吸附的部分去溶剂化离子或简单离子，形成吸附原子，***后，吸附原子在电极表面上迁移，直到并入晶格。

非扩散控制机理

根据电镀中占统治地位的非扩散因素，可将添加剂的非扩散控制机理分为电吸附机理、络合物生成机理(包括离子桥机理)、离子对机理、改变赫姆霍兹电位机理、改变电极表面张力机理等多种。

扩散控制机理

在大多数情况下，添加剂向阴极的扩散(而不是金属离子的扩散)决定着金属的电沉积速率。这是因为金属离子的浓度一般为添加剂浓度的100～105倍，对金属离子而言，化学镍磷电镀，电极反应的电流密度远远低于其极限电流密度。宁波电镀厂控制添加剂扩散，大多数添加剂粒子扩散并吸附在电极表面张力较大的凸突处及特殊的晶面上，致使电极表面吸附原子迁移到电极表面凹陷处并进入晶格，从而起到整平光亮作用。

真空电镀可以镀出漂亮金属镀膜层

通过蒸馏或溅射等方式在塑件外表堆积各种金属和非金属薄膜，化学电镀黑镍，真空电镀加工是指***对对塑胶、陶瓷、玻璃、树脂、五金等各类产品进行外表处置的工厂。

真空电镀主要包括：真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。指在真空条件下。通过这样的方式得到非常薄的外表镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高j产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。罕见的塑胶产品电镀工艺有两种：水电镀和真空离子镀。待镀的工件做阴极，镀层金属的阳离子在待镀工件外表被还原形成镀层。为排除其它阳离子的干扰，且使镀层均匀、牢固，需用含镀层金属阳离子的溶液做电镀液，以坚持镀层金属阳离子的浓度不变。

还可以镀出各种二元合金、三元合金乃至于四元合金；还可以制作复合镀层、纳米资料；可以在金属资料上电镀，电镀不只仅可以镀出漂亮的金属镀层。也可以在非金属资料上电镀。

这些技术的工业化是和电镀添加剂技术、电镀新材料技术在电镀液配方技术中的应用分不开的.用电解的方法将金属堆积于导体（如金属）或非导体（如塑料、陶瓷、玻璃钢等）外表，从而提高其耐磨性，增加其导电性，并使其具有防腐蚀和装饰功能。对于非导体制品的外表，需经过适当地处理（用石墨、导电漆、化学镀处理，或经气相涂层处理）使其形成导电层后，化学镍电镀，才干进行电镀。

什么是光学镀膜

对于CO2激光灯中红外线波段，常用的镀膜材料有氟化钇、氟化镨、锗等；对于YAG激光灯近红外波段或可见光波段，常用的镀膜材料有硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆等。除了高反膜、增透膜之外，还可以镀对某波长增反射、对另一波长增透射的特殊膜，如激光倍频技术中的分光膜等。

镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，电镀铜化学镍，目的是改变材料表面的反射和透射特性。在可见光和红外线波段范围内，大多数金属的反射率都可达到78%~98%，但不可高于98%。

无论是对于CO2激光，采用铜、钼、硅、锗等来制作反射镜，采用锗、shen化jia、硒化锌作为输出窗口和透射光学元件材料，还是对于YAG激光采用普通光学玻璃作为反射镜、输出镜和透射光学元件材料，都不能达到全反射镜的99%以上要求。不同应用时输出镜有不同透过率的要求，因此必须采用光学镀膜方法。

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