超纯水技术在半导体行业的应用

预处理部分预处理的作用是对原水进行粗加工.提供符合Ro进水要求的给水。其主要用来去除原水中的悬浮物、胶体，使SD≤4;去除游离氯等氧化性物质;去除部分有机物;降低LSI ，避免碳酸盐结垢。在超纯水制造工艺中，传统预处理方式是“多介质过滤器 活性炭过滤器”。而该半导体制造厂采用了“粗过滤器 超滤装置”作为超纯水系统的预处理部分，主要原因如下:(I)传统的预处理过程中SDI值不好控制，一般gt;5，不利于后续的一级反渗透系统的运行;而超滤装置的出水SDI值比较稳定(}1)，能够有效地保证一级反渗透系统的运行。(2)传统的预处理方式占地而积大，而“粗过滤器 超滤装置”占地而积小，节约了基建费用。(3)与传统的预处理方式在更换填料时需要大量的人力和物力相比，超滤装置的更换比较方便。(4)近年来，由于超滤技术的不断成熟，系统能够稳定安全地运行，而且超滤膜的价格也有了大幅度的降低，在一次性***和运行维护费用上跟传统的预处理方式相比差不多。

怎样减少水处理设备的故障率甚至杜绝故障的发生？

元件的***

水处理设备系统的浓水调节阀及并接在浓水出口的排放阀应处于完全开启状态。在此过程中。用过的反渗透膜元件一般要浸泡在1%亚硫l酸氢钠和18%甘油水溶液中，然后储存在关闭的塑料袋中。至少3个月校准1次。呈现塑料袋破损的情况下，可储存一年左右，再运用时也不会影响其寿数和功能。当翻开塑料袋后，要赶快运用，工业超纯水设备，以防亚硫l酸氢钠在空气中被氧化，对膜元件形成不良影响。

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超纯水技术在半导体行业的应用

1超纯水制造工艺半导体行业超纯水制造工艺可以概述为4个部分，分别为预处理部分、RO部分、电去离子部分和抛光混床部分。在有些半导体厂中，也有用“阴床十阳床”代替电去离子装置的，主要根据原水水质和产水水质对弱电解质的要求而定，这里主要探讨常用的电去离子工艺。

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