超纯水技术在半导体行业的应用

反渗透部分在半导体行业中，反渗透部分多采用双级反渗透工艺，以确保后续工艺的安全性。通过双级反渗透，可去除水中超过99%的悬浮物、胶体，98%以上的溶解盐，一体化中水回用设备，大部分的微生物、TOC和部分CO2。该半导体制造厂也采用双级反渗透工艺，同时将双级反渗透拆分成两个***的部分，这样就更加有效地保证了系统的连续运行，即使在更换反渗透膜或在线清洗反渗透膜时，也不会造成整个工厂大而积的停水，确保了关键部位的连续用水。该半导体厂采取在一级反渗透前增加SBS，MDC加药装置，保证了一级反渗透系统的安全运行;在一级反渗透和二级反渗透之间增加一套加碱装置，可提高二级反渗透系统的脱盐率。

1、反渗透设备简介

反渗透设备是将原水经过精细过滤器、颗粒活性碳过滤器、压缩活性碳过滤器等，再通过泵加压，利用孔径为1/10000μm（相当于大肠杆l菌大小的1/6000，病毒的1/300）的反渗透膜（RO膜），使较高浓度的水变为低浓度水，中水回用设备，同时将工业污染物、***、***、病毒等大量混入水中的杂质全部隔离，中水回用设备供应商，从而达到饮用规定的理化指标及卫生标准，产出至清至纯的水。

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超纯水技术在半导体行业的应用

1超纯水制造工艺半导体行业超纯水制造工艺可以概述为4个部分，分别为预处理部分、RO部分、电去离子部分和抛光混床部分。在有些半导体厂中，也有用“阴床十阳床”代替电去离子装置的，主要根据原水水质和产水水质对弱电解质的要求而定，这里主要探讨常用的电去离子工艺。

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