在固结磨料加工中，研磨抛光液的化学作用也不容忽视。在利用固结磨料抛光硅衬底中，比较了不同抛光液对材料去除率和表面质量的影响，发现抛光液组分和pH值得改变对抛光效果具有较大影响，从而可以推断抛光液与工件表面具有一定的化学作用。抛光机在抛光过程中，实际是对工件进行化学机械抛光，会产生大量的热，盘体会因为温度变化而产生形变，进而对工件的加工精度造成影响，因此在加工一些高精度工件时，抛光盘必须进行冷却，将盘体温度控制在一定范围内，确保抛光盘长时间保持在高精度的状态。 抛光液中存在一种化学物质可以软化水晶玻璃的表面表层，从而有利于材料的抛光速率的提高。但 由于蓝宝石的高化学稳定性，在详细的报告中并没有蓝宝石晶片研磨过程中研磨液起到的化学作用。

抛光机抛操作的关键是要设法得到***1大的抛光速率，以便赶快除掉磨光时发生的损害层。一起也要使抛光损害层不会影响***终观察到的安排，即不会形成假安排。7、平面抛光机使用过程中会有，抛光物体产生的废尘会进入机器内部，需要经常清理，如果不经常清理会导致机器不能正常运行。前者需求运用较粗的磨料，以确保有较大的抛光速率来去掉磨光的损害层，但抛光损害层也较深；后者需求运用***细的资料，使抛光损害层较浅，但抛光速率低。处理这个对立的***1佳的方法就是把抛光分为两个期间进行。

圆盘研磨机主要有:标准型研磨机[单面研磨机]，在大研磨盘上，放置几个保持环，其中放进工件，在工件上面加上适当压重进行研磨;摇摆型研磨机[单面研磨机]，将工件预先粘接在保持盘上，在研磨盘上进行左右摇摆研磨;双盘型研磨机[双面同时研磨]，在行星保持器上装进工件，工件被夹在上、下研磨盘之间，既自转又公转，两面同时研磨。双盘型研磨机[双面同时研磨]，在行星保持器上装进工件，工件被夹在上、下研磨盘之间，既自转又公转，两面同时研磨。

圆盘研磨机中摇摆研磨机使用带有万向接头的研磨碗可研球面，多用于光学零件加工，通过数控装置还可加工非球面，已发展成为数控非球面研磨机.双盘型研磨机有三种运动类型，三种都是行星保持器自转和公转:是上、下研磨盘均固定不动的，称为双动式(2 Way);第二种是下研磨盘旋转的，称为三动式(3 Way)，第三种是上、下研磨盘做同向或反向运动的，称为四动式(4 Way)。这样可以就可以使工件表面上的无数的切削条痕能够有规律地相互交错抵消，慢慢的越研越平，进而达到提高工件所要求的人表面精度的***终目的。