温度.对化学抛光的效率和表面质量有重要的影响.温度高抛光加速，但产生较多的气体，有可能产生气体缺陷.对于新配制的化学抛光槽液，氧化槽液，温度不宜太高；若溶铝量达到平衡时操作温度宜高些.随着溶铝量的增加，要维持一定的抛光效率就要提高槽液的温度，除磷剂，如果槽液温度超过设定的上限温度105℃，仍不能得到满意的光亮度，应根据化验结果调整槽液浓度或相对密度.此外，还要注意保持槽液各处温度的均匀性.

铝合金型材转移.化学抛光后，铝合金型材应该迅速转移到水洗槽中进行水洗.因为附着在铝合金型材上的化学抛光槽液十分黏滞，铝合金型材出槽后温度迅速冷却，化学反应还在继续，气体不断逸出，含量很快下降，表面液体层的溶铝量不断升高，三明化拋剂，越来越偏离正常的化学抛光所必要的工艺条件.如果铝合金型材转移迟缓，就有可能出现转移浸蚀等缺陷.

氧化抛光液氧化抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。适用于高精密光学仪器，除镍剂，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。

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