MEMS封装的特殊性大大增加了MEMS封装的难度和成本,据估计,MEMS器件的封装成本占整个MEMS成本的50%~90%,成为MEMS进-步发展的瓶颈。目前,国内MEMS封装技术比较落后,必须予以重视,并积极发展MEMS封装技术。
封装材料
一般来说,MEMS器件对封装材料有如下要求:封装材料的电导性要低,以降低电信号传送的干扰;传热性要好,对某些应用是需要散热,而另一些应用,诸如热传感器,则要求其与外界的温度保持一致;密封性能要好,对一些微机械结构而言,空气中的某些气体成分对其有腐蚀作用,而且杂质也会影响微机械系统的正常工作,因此要求封装材料具有良好的密封性能,才能保证器件的高可靠性。目前,用于MEMS封装的材料主要有陶瓷、金属和塑料等几种网。
MEMS封装技术顺势而生,它的制备工艺和设备已相当成熟,MEMS器件的应用并不多,没有大范围进行推广。因为MEMS器件的封装技术没有达到很高的水准,射频前端封装,所封装的器件并没有很好的质量。MEMS器件封装技术的不成熟在很大程度上面限制MEMS商业的发展。
MEMS微机电系统,是比较***的智能系统,尺寸很小,只有几毫米甚至更小,由三大部分组成,传感器、动作器和微能源。MEMS设计包含多方面学科,主要是物理学、化学、材料工程、电子工程等一系列学科,微机电系统应用于多方面领域,射频模块封装,汽车电子领域、计算机领域、消费电子领域、网络通信类这四类是***常见的领域。MEMS工艺与传统的IC工艺有许多相似之处,MEMS借鉴了IC工艺,如光刻、薄膜沉积、掺杂、刻蚀、化学机械抛光工艺等,对于毫米甚至纳米级别的加工技术,倒装封装技术,传统的IC工艺是无法实现的,必须得依靠微加工,进行精细的加工,能达到想要的结构和功能。微加工技术包括硅的体微加工技术、表面微加工技术。体加工技术是指沿着佳衬底的厚度方向对硅衬底进行刻蚀的工艺,是实现三维结构的重要方法。表面微加工是采用薄膜沉积、光刻以及刻蚀工艺,通过在牺牲层薄膜上沉积结构层薄膜,封装,然后去除牺牲层释放结构层实现可动结构。
mems封装优势
微机电系统是按照功能在芯片上的集成,尺寸一般是在毫米以下,制作工艺更加精密,需要更高的技术,微机电系统早在国外就有应用,我国起步晚,在MEMS方面的投入逐渐增大,所占市场股份越来越大。微机电系统的出现和发展是现代科学创新思维的结果,也是微观尺度制造技术方面的进化和革命。MEMS在传感器领域应用的***为广泛,因为体积小,重量轻,成本***的原因广受欢迎,使多种领域对体积小性能高的MEMS产品的需求迅速增长,在消费电子、医i疗等领域就发现了大量的MEMS产品。
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