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刻蚀原理

硅的湿法刻蚀是指利用含有腐蚀剂的溶液对硅进行腐蚀 ， 可分为各向同性腐蚀技术和各向异性腐蚀技术。各向同性腐蚀是指各个晶向上的腐蚀速率相同 ， 衬底和表面取向的不同对腐蚀速率的影响不大。 各向异性腐蚀是指硅的不同晶面在某些特定的腐蚀液中被刻蚀的速率不同 ， 导致各个晶向的腐蚀速率不同。现出结构边缘平滑的现象。各向同性腐蚀液常用 HF、 HN O 3 和 H2O(CH3COOH) ， 用这些腐蚀液很难实现选择性腐蚀 ， 并且很难能找到能够长时间承受腐蚀的材料。电池板,太阳能板回收价格一个光伏阵列之间的组件是通过串联的方式链接，遮挡会影响整个阵列的发电量。 各向异性腐蚀液包括无机腐蚀剂和有机腐蚀剂两种 ， 其中无机腐蚀剂为 NH4OH、 KOH 和 NaOH 等碱性溶液 ，常州抛光片， 有机腐蚀剂为 TMAH 、EPW( 邻苯二酚、***、水 ) 和联胺。

通常情况下选用 KOH、 ( CH3) 2CHOH ( 异***也叫 IPA) [ 8] 和水作为各向异性腐蚀液 ，回收抛光片多少钱，则根据硅在腐蚀液中的腐蚀机制可表示如下：

KOH H3O= K 2OH- H

Si 2OH - 4H 2O=Si( OH)62-

Si( OH) 6 2- 6( CH 3) 2CH OH= [ Si( OC3H7 ) ] 62- 6H 2O

然后，络合产物与异***作用生成可溶解。

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硅基片表面的氨基化处理

取出 氨化烧杯（ 专用 ），回收单晶硅抛光片， 先用无水乙醇清洗 2 次， 然后倒入 20ml 无水乙醇，将步骤（ 2）反应后的获得的羟基化硅片转移到氨化烧杯中，用无水乙醇清洗 3 次。清洗时同步骤（２） ，使硅片处于乙醇环境中；按现在光伏电站市场价，安装一套5kW(占地约50平米)光伏电站系统大概需要4、5万元。清洗完成后倒掉乙醇，迅速加入 3-氨基丙基三乙氧基***（ APTES）和无水乙醇的混合液（体积比为 1： 15），或者先加 15ml 无水乙醇，然后用移液管加 1mlAPTES，摇床上振摇反应 2 h。该反应结束后可以使硅片表面氨基化。

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