光学玻璃的精密抛光的化学稳定性

光学玻璃元件在制造和使用过程中，其抛光表面抵抗各种侵蚀性介质作用的能力称为光学玻璃的化学稳定性。

1 抗潮湿大气作用稳定性RC（S）(表面法)

根据对潮湿大气作用的稳定性，分为三级：

1级—在温度50℃，相对湿度80％的条件下，光学玻璃抛光表面形成水解斑点的时间超过 20h；

2级—在相同试验条件下，形成水解斑点的时间在5h～20h之间； 3级--在相同试验条件下，形成水解斑点的时间不到5h。

光学玻璃

2抗酸作用稳定性RA（S）(表面法)

根据对酸溶液作用的稳定性，分为三级：

1级—在0.1N、温度50℃醋l酸溶液作用下，光学玻璃抛光表面的***深度达135nm的时间 超过5h；

2级—在相同试验条件下，***深度达135nm的时间在1h～5h； 3级--在相同试验条件下，***深度达135nm的时间不到1h。

光学玻璃高精化的方法

在线电解修锐法（Elect roly tic Inprocess Dressing , 简称ELID 法） 早期的在线电解休整磨削对光学玻璃进行加工的方法，其得到的光学玻璃材料表面仍存在一些亚表面损伤和微裂纹，这些表面缺陷可以通过游离的磨粒进行抛光而去除。因而，人们想找到一种更好的、能结合ELLD磨削的光整加工工艺。EL ID 磨削可用来进行硬脆材料的高精度、***率磨削,而MRF 可用来进行确定性形状的修正与抛光。本文提出结合MRF 与EL ID 磨削的组合工艺对各种光学材料(如玻璃透镜、碳化硅、硅晶玻璃等) 进行超精密加工的方法,即采用EL ID 磨削进行预抛光以***率地获得高质量表面,然后采用MRF 以进一步减小表面粗糙度和形状误差。利用该组合加工工艺可以在短时间内得到亚纳米级的表面粗糙度和峰谷值为λ/ 20nm的形状精度。由此可见，该方法是可取的。

由于电子信息产业中涉及的半导体和光纤生产工艺，石英玻璃消耗大量石英板，环，板，法兰，沟槽船，扩散炉管，清洗槽，大尺寸石英坩埚，纤维光学套管，保持棒等优质石英材料，对国内天然高纯石英材料的需求和技术提出了新的要求，为石英玻璃材料和制品行业带来了巨大的发展，肯定会推动石英玻璃材料和制品业的发展。质量和数量稳步增长。据业内***称，***电子信息产业正在发展中。作为电子信息的基础材料，石英材料将在未来5 - 10年内迎来新的高潮。石英材料在高科技产业中将逐渐变得越来越重要。支持材料。