光刻板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字 MASK 或 PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。（光感应胶别称光致抗蚀剂，是运用光化学反应开展图型迁移的新闻媒体性精细***，依据不一样的主要用途特性等有多种多样型号规格，现阶段光掩模板大部分全是用的正性胶。在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。光刻正性胶在经激光器直射后，曝 i 光区域邻重氮萘醌化学物质产生光氧催化反映重排列成羧酸，使胶纸加快溶解稀碱溶液。）把已设计构思好的电源电路图型根据电子器件激光切割设备曝 i 光在光感应胶上,被曝 i 光的地区会被显影出去，在金属铬上产生电源电路图型，变成相近曝 i 光后的胶片照片的光掩模板，随后运用于对集成电路芯片开展投射i精准***，根据集成电路芯片光刻技术对所投射的电源电路开展光蚀刻工艺，其生产制造工艺流程为：曝 i 光，显影，去光感应胶，***终运用于光蚀刻工艺。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

立体结构:应时玻璃片上覆盖有集成电路图像铬金属膜的图像。十字线:当铬膜玻璃只能部分覆盖晶片时，称为十字线光掩模，图案通常放大4、5或10倍。掩模:当铬膜玻璃上的图像可以覆盖整个晶片时，它被称为掩模。

光掩膜除开运用于集成ic生产制造外，还普遍的运用与像LCD，PCB等层面。普遍的光掩膜的类型有几种，铬版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。关键分2个构成，基钢板和不透原材料。开关电源要平稳、输出功率要充足大，不然灯源超声波发生器没法平稳工作中。基钢板一般 是高纯，低透射率，低线膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透层是根据溅射的方式镀在夹层玻璃正下方厚约0.1um的铬层。铬的强度比夹层玻璃略小，虽不容易损伤但是将会被夹层玻璃所损害。运用于集成ic生产制造的光掩膜为高敏***的铬版。