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光刻是使用***的半导体器件制造过程中的重要步骤 i 光和显影描绘光致抗蚀剂层上的几何结构，然后通过蚀刻工艺将光掩模上的图案转移到衬底上。这里提到的衬底不仅包括硅晶片，还包括其他金属层和电介质层，例如SOS中的玻璃和蓝宝石。

蚀刻或离子注入完成后，将进行光刻的***后一步，即光致抗蚀剂去除，以促进半导体器件制造的其他步骤。通常，在半导体器件的整个制造过程中，执行许多光刻工艺。生产复杂集成电路的过程可能需要多达50个光刻步骤，而生产薄膜所需的光刻步骤数量将更少。

数字图像处理中，图象掩模适用于：①获取很感兴趣区,用事先制做的很感兴趣区掩模与等待审核图象乘积,获得很感兴趣区图象,很感兴趣居民区图象值保持不变,而区外图象值都为0。在半导体设备中，很多集成ic加工工艺流程选用光刻技术，用以这种流程的图型“胶片照片”称之为掩膜（也称之为“掩模”），其***是：在硅片上选中的地区中对1个不全透明的图型模版遮住，进而下边的浸蚀或外扩散将只危害选中的地区之外的地区。②屏蔽掉***,用掩模对图象上一些地区作屏蔽掉,使其不报名参加解决或不报名参加解决主要参数的测算,或仅对屏蔽掉区作解决或统计分析。③构造特征提取,用相似度自变量或图像匹配方式检验和获取图象中与掩模类似的特点。④独特样子图象的制做。掩膜是这种图象ps滤镜的模版，好用掩膜常常解决的是遥感图像。当获取路面或是江河，或是房子时，根据1个n*n的向量来对图象开展清晰度过虑，随后将人们必须的地物或是标示突出显示出去。这一向量就是说这种掩膜。