光刻技术能够 说每一构件全是技术含量很高，步步重重困难。 短板关键集中化在镜片、掩膜版、灯源、动能控制板等。 下边简单单详细介绍光刻技术的构造和原理： 光刻技术的灯源有：激光器，紫外线、深紫外线、极紫外线。如今优i秀技术性是极紫外线。 图为要以激光器为灯源的光刻技术简单工作中电路原理图： 在生产制造集成ic时，***i先在圆晶（硅芯片）表层涂光感胶，再用光源穿透掩模板（等于集成ic电路图纸的胶片照片）直射硅片表层，被光源照射的灯光效果胶会产生反映。1mm厚度的软片菲林都是黑色的，菲林的边角一般有一个英文的符号，是菲林的编号，标明该菲林是C、M、Y、K中的哪一张，是cmyk的其中一个（或专色号），表示这张菲林是什么色输出的，如果没有，可以看挂网的角度，来辨别是什么色。自此用特殊有机i溶剂洗掉被直射或是未被直射的胶，电路原理图就印到硅片上。 此全过程等于木工施工用墨斗施工放样、画线。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

集成电路工业中的“掩模”是光掩模 屏蔽数据: 在半导体制造的整个过程中，部分是从布局到晶片制造的过程，即光掩模或掩模制造。这部分是流程连接的关键部分，也是流程中***昂贵的部分。 i 较高的部分也是限制***i小线宽的瓶颈之一。

接触光刻技术中使用的掩模的表面特征图案的尺寸与实际掩模的尺寸相同。 i 在衬底上形成的图案是1∶1，并且以直接接近光致抗蚀剂层表面的方式*** i 光线；另一方面，缩微技术中使用的掩模具有表面特征图案的实际尺寸。 i 在衬底上形成的图案的几次通过光学系统投影模式*** i 光明。在描绘时，选用步进电机机描绘(stepper)，在其中有电子束和激光器之分，粒子束立即在有涂铬层的4-9“ 玻璃板上描绘，边沿起始点5mm，与电子束对比，其弧型更真实，图形界限与间隔更小。