企业商品包含方解石掩膜版，碳酸钠掩膜版，及其丝印网版版。苏州市制板依据顾客的设想、手稿，订制板图，苏州市制板出示高品质掩膜版及其中后期的代理加工服务项目！ 内别称光掩模板、掩膜版，英文名字 MASK 或 PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶，变成这种感光材料，把已设计构思好的电源电路图型根据电子器件激光切割设备曝 i 光在光感应胶上,被曝 i 光的地区会被显影出去，在金属铬上产生电源电路图型，变成相近曝 i 光后的胶片照片的光掩模板，随后运用于对集成电路芯片开展投射i精准***，根据集成电路芯片光刻技术对所投射的电源电路开展光蚀刻工艺，其生产制造工艺流程为：曝 i 光，显影，去光感应胶，***终运用于光蚀刻工艺。推荐温度为34～36℃，并且要在显影温度稳定且达到设定温度时再测密度和做线性化。

假如明确提出包装印刷规定的顾客沒有文本文档，只出示1个实样，实样假如是4色 i 图样的，很繁杂的,这时候就必须先拿来滚桶扫描仪,扫描仪以后还要电脑上制做，别名电脑上制板，这儿制的版是指丝印网版,(丝印网版:就是说胶卷,和拍照用的胶片机相同的,***术语就叫丝印网版。你应当有在报刊上看了,某某某一出現，扼杀了许多摄像师的丝印网版，相同含意) 再用电脑上制做好后，依据总数，规格型号这些来拚版，就是说拚在一纸型的开数里边。光罩是光刻工艺中的1个关键步骤，光刻版务必十分清洁，全部硅片上的电源电路元器件都来源于板图。例如4开，六开等，随后就是说輸出丝印网版。

在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

选定的图像、图形或对象用于阻挡已处理的图像(全部或部分)，以控制图像处理区域或过程。用于覆盖的特定图像或对象称为遮罩或模板。在光学图像处理中，掩模可以是薄膜、滤光器等。在数字图像处理中，掩模是二维矩阵阵列，有时也使用多值图像。