光掩膜版制造行业的发展趋势关键受中下游平板显示制造行业、触摸制造行业、电子行业和线路板制造行业的发展趋势危害，与中下游终端设备制造行业的流行消费电子产品（手机上、平板电脑、智能穿戴设备）、笔记本、车载电子、通信网络、电器产品、LED照明灯具、物联网技术、医i疗电子器件等商品的发展趋向息息相关，预估将来两年在我国光掩膜版制造行业将向几寸、精细化管理、产业链方位发展趋势。2011年在我国光掩膜版生产制造经营规模为0.87万平方，2016年生产制造经营规模提高至1.69万平方，年复合增长率超过14.20%。

掩膜除了应用于芯片制造外，还广泛的应用与像LCD，PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小，虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。

在刻画时，采用步进机刻画(stepper)，其中有电子束和激光之分，激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画，边缘起点5mm，与电子束相比，其弧形更逼真，线宽与间距更小。

公司产品包括石英掩膜版，玻璃板，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光刻和刻蚀有什么不同？

这2个词是半导体材料加工工艺中的关键流程，必须相互配合剖面图解读，***i好自身找本半导体材料加工工艺的书看。“光刻”就是指在涂上光刻胶的圆晶（或是叫硅片）顶盖上事前搞好的光呆板，随后用紫外光隔着光呆板对圆晶开展必须時间的直射。基本原理就是说运用紫外光使一部分光刻胶霉变，便于浸蚀。“刻蚀”是光刻后，用浸蚀液将霉变的那一部分光刻胶浸蚀掉（正胶），圆晶表层就凸显集成电路工艺以及联接的图型。随后用另这种浸蚀液对圆晶浸蚀，产生集成电路工艺以及电源电路。

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