公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

图形扩展和收缩 即从栅极开始的尺寸操作，例如栅极处的注入层 尺寸扩大了。在半导体设备中，很多集成ic加工工艺流程选用光刻技术，用以这种流程的图型“胶片照片”称之为掩膜（也称之为“掩模”），其***是：在硅片上选中的地区中对1个不全透明的图型模版遮住，进而下边的浸蚀或外扩散将只危害选中的地区之外的地区。除了对应于电路的图案之外，完整的光掩模图案还包括一些辅助图案或测试图案。常见的图案包括光标、光刻对准图案和*** i 灯光控制图形、测试关键图形、光学对准目标图形、划线槽图形以及其他LOGO名称、版本等。

通常只能大的印刷工厂才会自身輸出丝印网版,要不然一切正常全是发至外边的技术***菲林输出企业輸出的，丝印网版的輸出是依据文档里边的设置出的，一切正常是四色印刷，4色就是说出去是四张片,假如有专色就多1个 i 色,或许也是将会是相映两色的。其次是资金上的困难：光刻机由于技术难度大，研发资金投入巨大，以至于佳能和索i尼都亏损严重，已经停止研发，退出未来技术的竞争。这一要看样板设计制作了。丝印网版出去后，假如历经核查以后就是说油墨印刷了，就是说把图样晒到PS版上边，随后PS版要悬挂到印刷设备上边包装印刷的，包装印刷完也有许多工艺流程，哪些覆亚膜,烫印,过油.UV,抛光,裁剪.圆弧这些。

掩膜（MASK）就是指单片机设计掩膜就是指程序流程统计数据早已制成光刻版，在单片机设计生产制造的全过程中把程序流程做进来。这层光阻剂在曝 i 光（通常是紫外光）后能够被特殊水溶液（显影液）融解。优势是：程序流程靠谱、低成本。缺陷：大批量规定大，每一次改动程序流程就必须再次做光呆板，不一样程序流程不可以一起生产制造，交货期长。