公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

掩膜（MASK）就是指单片机设计掩膜就是指程序流程统计数据早已制成光刻版，在单片机设计生产制造的全过程中把程序流程做进来。优势是：程序流程靠谱、低成本。缺陷：大批量规定大，每一次改动程序流程就必须再次做光呆板，不一样程序流程不可以一起生产制造，交货期长。

光刻板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字MASK或PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。（光感应胶别称光致抗蚀剂，是运用光化学反应开展图型迁移的新闻媒体性精细***，依据不一样的主要用途特性等有多种多样型号规格，现阶段光掩模板大部分全是用的正性胶。光刻正性胶在经激光器直射后，曝i光区域邻重氮萘醌化学物质产生光氧催化反映重排列成羧酸，使胶纸加快溶解稀碱溶液。）把已设计构思好的电源电路图型根据电子器件激光切割设备曝i光在光感应胶上，被曝i光的地区会被显影出去，在金属铬上产生电源电路图型，变成相近曝i光后的胶片照片的光掩模板，随后运用于对集成电路芯片开展投射i精准***，根据集成电路芯片光刻技术对所投射的电源电路开展光蚀刻工艺，其生产制造工艺流程为：曝i光，显影，去光感应胶，***终运用于光蚀刻工艺。

在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，光刻版，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

选定的图像、图形或对象用于阻挡已处理的图像(全部或部分)，以控制图像处理区域或过程。用于覆盖的特定图像或对象称为遮罩或模板。在光学图像处理中，掩模可以是薄膜、滤光器等。在数字图像处理中，掩模是二维矩阵阵列，有时也使用多值图像。

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