荷兰的A***L公司垄断了高i端光刻机。但其透镜来自德国的蔡司，自己也做不了。光源是美国的Cymer.所以说它也不是完全技术***。主要是技术难度太大。

　　其次是资金上的困难：

　　光刻机由于技术难度大，研发资金投入巨大，以至于佳能和索i尼都亏损严重，已经停止研发，退出未来技术的竞争。

　　荷兰的A***L,为了筹集i资金，同时也是进行上下游利益***，研发风险共担，邀请英特尔、三星和台积电出资，做自己的大股东。A***L实际上是美、日、韩、德等共同***的项目，资金充裕。

　　中国也在此方面有长期投入，但投入水平和不能和多国合作同日而语。中国有相对宽裕的研发资金，也才是近7、8年的事情，而光刻机的研发，10年都显然不够。

掩膜除了应用于芯片制造外，还广泛的应用与像LCD，PCB等方面。但近些年掩膜版业务外包的发展趋势十分的显著，非常是针对某些 60nm 及 90nm 左右焊锡的中低端商品。常见的光掩膜的种类有四种，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小，虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。

在刻画时，采用步进机刻画(stepper)，其中有电子束和激光之分，激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画，边缘起点5mm，与电子束相比，其弧形更逼真，线宽与间距更小。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

图形扩展和收缩 即从栅极开始的尺寸操作，例如栅极处的注入层 尺寸扩大了。在图形检验阶段我们拥有自动光学检验机台（AOI），通过图形逻辑对比分析取样，修补能力1。除了对应于电路的图案之外，完整的光掩模图案还包括一些辅助图案或测试图案。常见的图案包括光标、光刻对准图案和*** i 灯光控制图形、测试关键图形、光学对准目标图形、划线槽图形以及其他LOGO名称、版本等。