苏州制版位于苏州工业园区生物纳米园，是集研究、设计、生产、销售于一体，***制作高精度掩膜版的企业，拥有高标准的全净化厂房，优i秀的高素质人才、***的研发团队。 苏州制版，面向中小企业、大学、研究所客户，提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版！根据客户的构想、草图，独i家定制版图提供技术咨询服务！其镭射光源为650~670纳米的红色激光，类似高i端的富士XPR-7S级别菲林，线宽精度可以做到±1。

苏州制版提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版，目前投入生产有多台激光直写设备以及电子束曝i光设备。常规铬版CD精度±0.2um，高精石英铬版精度±0.07um。菲林版分辨率20um以上精度±2um。曝i光设备外，还拥有全自动显影柜，可以批量进行显影处理，保证生产能力。在图形检验阶段我们拥有自动光学检验机台（AOI），通过图形逻辑对比分析取样，修补能力1.2um，精度±0.1um。在我国的光掩膜版制造行业仅可以满足中国中低端商品市场需求，高 i 档光掩膜版则由海外企业立即出示。可以有效地排除缺陷问题。

掩膜版：通俗化点了解，等于以往用胶卷冲洗照片时的胶片照片。胶片照片假如精密度不足，是洗不出去高精相片的。光刻技术工程施工前，要依据设计构思好的集成ic电路原理图制做掩膜板。掩膜板材料是石英玻璃，夹层玻璃上带金属铬和光感应胶。根据激光器在金属铬上绘图电路原理图。精密度规定十分高。 镜片：用镜片的电子光学基本原理，将掩膜版上的电路原理图按占比变小，再用灯源投射的硅片上。光在数次投影时会造成电子光学偏差。蚀刻或离子注入完成后，将进行光刻的***后一步，即光致抗蚀剂去除，以促进半导体器件制造的其他步骤。要操纵这一偏差。精密度规定很高。 就是说精准测量台中移动的控制板，都是氧化硅精密度，规定极高。

数字图像处理中，图象掩模适用于：①获取很感兴趣区,用事先制做的很感兴趣区掩模与等待审核图象乘积,获得很感兴趣区图象,很感兴趣居民区图象值保持不变,而区外图象值都为0。随后应用前边提及的显影液，融解掉被直射的地区，那样，光掩模上的图型就展现在光刻胶上。②屏蔽掉***,用掩模对图象上一些地区作屏蔽掉,使其不报名参加解决或不报名参加解决主要参数的测算,或仅对屏蔽掉区作解决或统计分析。③构造特征提取,用相似度自变量或图像匹配方式检验和获取图象中与掩模类似的特点。④独特样子图象的制做。掩膜是这种图象ps滤镜的模版，好用掩膜常常解决的是遥感图像。当获取路面或是江河，或是房子时，根据1个n*n的向量来对图象开展清晰度过虑，随后将人们必须的地物或是标示突出显示出去。这一向量就是说这种掩膜。