什么叫光刻掩模版 在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精 i 明确位，便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝 i 光的这种构造，称之为光刻掩模板。 半导体材料集成电路芯片制做全过程一般 必须历经数次光刻工艺，在半导体材料结晶表层的物质层上开掘各种各样夹杂对话框、电级触碰孔或在导电性层上刻蚀金属材料互联图型。光刻工艺必须整套（几片多至十几元）相互之间能精 i 确套准的、具备特殊图形的光打印掩蔽模板。“光刻”就是指在涂上光刻胶的圆晶（或是叫硅片）顶盖上事前搞好的光呆板，随后用紫外光隔着光呆板对圆晶开展必须時间的直射。

在描绘时，选用步进电机机描绘(stepper)，在其中有电子束和激光器之分，粒子束立即在有涂铬层的4-9“ 玻璃板上描绘，边沿起始点5mm，与电子束对比，其弧型更真实，图形界限与间隔更小。光掩膜有掩膜正版(reticle mask，也是称之为正中间掩膜，reticle做为企业译成光纤传感器)，用步进电机机反复将占比变小到master maks上，运用到具体曝 i 光中的为工作中掩膜(working mask)，工作中掩膜由master mask复 i 制回来。开关电源要平稳、输出功率要充足大，不然灯源超声波发生器没法平稳工作中。

光呆板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字 MASK 或 PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精i明确位，便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝 i 光的这种构造，称之为光刻掩模板。若使高倍显微镜，会发觉甚多时丝印网版单是感色层及不一样成分的显影药膜都超出13层，而不一样药膜中间又会随時间及室内空气危害，令质量一落千丈。