数字图像处理中，图象掩模适用于：①获取很感兴趣区，用事先制做的很感兴趣区掩模与等待审核图象乘积，获得很感兴趣区图象，很感兴趣居民区图象值保持不变，而区外图象值都为0。②屏蔽掉***，用掩模对图象上一些地区作屏蔽掉，使其不报名参加解决或不报名参加解决主要参数的测算，或仅对屏蔽掉区作解决或统计分析。③构造特征提取，用相似度自变量或图像匹配方式检验和获取图象中与掩模类似的特点。④独特样子图象的制做。掩膜是这种图象ps滤镜的模版，好用掩膜常常解决的是遥感图像。当获取路面或是江河，或是房子时，根据1个n*n的向量来对图象开展清晰度过虑，随后将人们必须的地物或是标示突出显示出去。这一向量就是说这种掩膜。

在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，掩膜板，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

选定的图像、图形或对象用于阻挡已处理的图像(全部或部分)，以控制图像处理区域或过程。用于覆盖的特定图像或对象称为遮罩或模板。在光学图像处理中，掩模可以是薄膜、滤光器等。在数字图像处理中，掩模是二维矩阵阵列，有时也使用多值图像。

在描绘时，选用步进电机机描绘(stepper)，在其中有电子束和激光器之分，粒子束立即在有涂铬层的4-9“玻璃板上描绘，边沿起始点5mm，与电子束对比，其弧型更真实，图形界限与间隔更小。光掩膜有掩膜正版(reticlemask，也是称之为正中间掩膜，reticle做为企业译成光纤传感器)，用步进电机机反复将占比变小到mastermaks上，运用到具体曝i光中的为工作中掩膜(workingmask)，工作中掩膜由mastermask复i制回来。

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