公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

菲林在使用中需注意的事项

菲林密度分高密和低密两种。低密是指胶片冲洗后完全未曝i光处的密度，一般在0.05左右。低密值越低越能使胶片清晰通透，晒版网点质量好。高密指胶片经100%曝i光处冲洗后的实地密度。一般铜版纸印刷所用的晒版菲林要求高密值不低于3.5，通常在3.5～4.5,这样可以保证菲林上的图像信息在晒版时很好地转移到印版上。新闻纸和胶版纸印刷(含地图纸)时，因纸张吸墨性特强和印速高等原因，其高密可适当降低。业务外包的掩膜版市场占有率从2003 年里的 30%升高至 2014 年的 53%。

集成电路工业中的“掩模”是光掩模 屏蔽数据: 在半导体制造的整个过程中，部分是从布局到晶片制造的过程，即光掩模或掩模制造。这部分是流程连接的关键部分，也是流程中***昂贵的部分。 i 较高的部分也是限制***i小线宽的瓶颈之一。

在半导体设备的全部步骤中，在其中部分就是以板图到圆晶（wafer）生产制造正中间的1个全过程，即光掩膜或称光罩(mask)生产制造。这部分是步骤对接的重要一部分，是步骤中工程造价*** i 高的部分，都是限定*** i 小图形界限的短板之首。 针对数据处理方法关键来源于于加工工艺上的规定，在图像处理上带：1，立即相匹配 光掩膜立即相匹配到板图的一层层，如金属材料层。2，逻辑运算 光刻图型将会由1层或双层板图层逻辑运算而成。例如界定pplus与nplus相辅相成，假如只能pplus，nplus将由pplus开展逻辑性非的与运算获得。在具体解决中以翻转的方式保持。但是特别注意的是，在开展一些逻辑运算时，涂层的次序非常关键。光掩膜除开运用于集成ic生产制造外，还普遍的运用与像LCD，PCB等层面。与翻转与运算融合进，与运算的顺序也很关键。