光掩膜版制造行业的发展趋势关键受中下游平板显示制造行业、触摸制造行业、电子行业和线路板制造行业的发展趋势危害，与中下游终端设备制造行业的流行消费电子产品（手机上、平板电脑、智能穿戴设备）、笔记本、车载电子、通信网络、电器产品、LED照明灯具、物联网技术、医i疗电子器件等商品的发展趋向息息相关，预估将来两年在我国光掩膜版制造行业将向几寸、精细化管理、产业链方位发展趋势。2011年在我国光掩膜版生产制造经营规模为0.87万平方，2016年生产制造经营规模提高至1.69万平方，年复合增长率超过14.20%。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光刻是生产制造集成电路工艺和集成电路芯片微图型构造的重要加工工艺。其加工工艺品质立即危害着元器件产出率、可信性、元器件特性及其使用期等主要参数指标值。光罩是光刻工艺中的1个关键步骤，光刻版务必十分清洁，全部硅片上的电源电路元器件都来源于板图。假如光刻版不清洁，光刻板，存有环境污染颗粒物，这种颗粒物就会被复i制到硅片表层的光刻胶上，导致元器件特性的降低。殊不知，光刻版在应用全过程中难以避免的会沾到尘土、光刻胶等空气污染物，这种空气污染物的存有立即危害到光刻的实际效果。为了确保光刻版清洁，务必按时对光刻版开展清理，而清理的实际效果与清理加工工艺及其各清理加工工艺在机器设备上的合理流动拥有紧密的联络。

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为了避免掩模对要蒸发的衬底造成损坏，通常在掩模上设置保护膜，并且保护膜由有机材料制成。当保护膜接触要蒸发的基板时，保护膜对要蒸发的基板造成的损害小于掩模对要蒸发的基板造成的损害。

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