公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

Reticle也称为Mask，翻译做光掩模板或者光罩，曝i光过程中的原始图形的载体，通过曝i光过程，这些图形的信息将被传递到芯片上。制造芯片时用.我们公司做的掩膜版，一般是根据客户的要求做的，客户提供图纸我们加工

企业商品包含方解石掩膜版，碳酸钠掩膜版，及其丝印网版版。苏州市制板依据顾客的设想、手稿，订制板图，苏州市制板出示高品质掩膜版及其中后期的代理加工服务项目！据统计：根据SEMI,目前***半导体光刻掩膜版市场规模近34亿美元，即210亿人民i币。 内别称光掩模板、掩膜版，英文名字 MASK 或 PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶，变成这种感光材料，把已设计构思好的电源电路图型根据电子器件激光切割设备曝 i 光在光感应胶上,被曝 i 光的地区会被显影出去，在金属铬上产生电源电路图型，变成相近曝 i 光后的胶片照片的光掩模板，随后运用于对集成电路芯片开展投射i精准***，根据集成电路芯片光刻技术对所投射的电源电路开展光蚀刻工艺，其生产制造工艺流程为：曝 i 光，显影，去光感应胶，***终运用于光蚀刻工艺。

在描绘时，选用步进电机机描绘(stepper)，在其中有电子束和激光器之分，粒子束立即在有涂铬层的4-9“ 玻璃板上描绘，边沿起始点5mm，与电子束对比，其弧型更真实，图形界限与间隔更小。光掩膜有掩膜正版(reticle mask，也是称之为正中间掩膜，reticle做为企业译成光纤传感器)，用步进电机机反复将占比变小到master maks上，运用到具体曝 i 光中的为工作中掩膜(working mask)，工作中掩膜由master mask复 i 制回来。自此用特殊有机i溶剂洗掉被直射或是未被直射的胶，电路原理图就印到硅片上。