什么叫光刻掩模版 在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精 i 明确位，便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝 i 光的这种构造，称之为光刻掩模板。除了对应于电路的图案之外，完整的光掩模图案还包括一些辅助图案或测试图案。 半导体材料集成电路芯片制做全过程一般 必须历经数次光刻工艺，在半导体材料结晶表层的物质层上开掘各种各样夹杂对话框、电级触碰孔或在导电性层上刻蚀金属材料互联图型。光刻工艺必须整套（几片多至十几元）相互之间能精 i 确套准的、具备特殊图形的光打印掩蔽模板。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

在生产制造集成ic时，***i先在圆晶（硅芯片）表层涂光感胶，再用光源穿透掩模板（等于集成ic电路图纸的胶片照片）直射硅片表层，被光源照射的灯光效果胶会产生反映。自此用特殊有机i溶剂洗掉被直射或是未被直射的胶，电路原理图就印到硅片上。蚀刻或离子注入完成后，将进行光刻的***后一步，即光致抗蚀剂去除，以促进半导体器件制造的其他步骤。 此全过程等于木工施工用墨斗施工放样、画线。 硅片上带了电路原理图的样图后，就到刻蚀机出场，刻蚀机等于木工的锯子、斧子、木工凿、刨刀。刻蚀机按图工程施工，在硅片表层手工雕刻出三极管和电源电路。

光刻是生产制造集成电路工艺和集成电路芯片微图型构造的重要加工工艺。其加工工艺品质立即危害着元器件产出率、可信性、元器件特性及其使用期等主要参数指标值。光刻是生产制造集成电路工艺和集成电路芯片微图型构造的重要加工工艺。光罩是光刻工艺中的1个关键步骤，光刻版务必十分清洁，全部硅片上的电源电路元器件都来源于板图。假如光刻版不清洁，存有环境污染颗粒物，这种颗粒物就会被复 i 制到硅片表层的光刻胶上，导致元器件特性的降低。殊不知，光刻版在应用全过程中难以避免的会沾到尘土、光刻胶等空气污染物，这种空气污染物的存有立即危害到光刻的实际效果。为了确保光刻版清洁，务必按时对光刻版开展清理，而清理的实际效果与清理加工工艺及其各清理加工工艺在机器设备上的合理流动拥有紧密的联络。