公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
光刻是使用***的半导体器件制造过程中的重要步骤i光和显影描绘光致抗蚀剂层上的几何结构,光刻版,然后通过蚀刻工艺将光掩模上的图案转移到衬底上。这里提到的衬底不仅包括硅晶片,还包括其他金属层和电介质层,例如SOS中的玻璃和蓝宝石。
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接触光刻技术中使用的掩模的表面特征图案的尺寸与实际掩模的尺寸相同。i在衬底上形成的图案是1∶1,并且以直接接近光致抗蚀剂层表面的方式***i光线;另一方面,缩微技术中使用的掩模具有表面特征图案的实际尺寸。i在衬底上形成的图案的几次通过光学系统投影模式***i光明。
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菲林在使用中需注意的事项
每一批次的菲林在投入使用之前,都应进行基本密度测试及网点线性化,而后根据测试结果采取相应的工艺措施,如调整激光焦距、曝i光量、显影定影的温度和时间以实现规范化、科学化生产,防止不合格产品产生。
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