荷兰的A***L公司垄断了高i端光刻机。但其透镜来自德国的蔡司，自己也做不了。光源是美国的Cymer.所以说它也不是完全技术***。主要是技术难度太大。

　　其次是资金上的困难：

　　光刻机由于技术难度大，研发资金投入巨大，以至于佳能和索i尼都亏损严重，已经停止研发，退出未来技术的竞争。

　　荷兰的A***L，为了筹集i资金，掩膜板，同时也是进行上下游利益***，研发风险共担，邀请英特尔、三星和台积电出资，做自己的大股东。A***L实际上是美、日、韩、德等共同***的项目，资金充裕。

　　中国也在此方面有长期投入，但投入水平和不能和多国合作同日而语。中国有相对宽裕的研发资金，也才是近7、8年的事情，而光刻机的研发，10年都显然不够。

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什么叫掩膜***i先人们从物理学的视角讨论一下mask究竟是什么全过程。在半导体设备中，很多集成ic加工工艺流程选用光刻技术，用以这种流程的图型“胶片照片”称之为掩膜（也称之为“掩模”），其***是：在硅片上选中的地区中对1个不全透明的图型模版遮住，进而下边的浸蚀或外扩散将只危害选中的地区之外的地区。图象掩膜两者之间相近，用选中的图象、图型或物块，对解决的图象（所有或部分）开展挡住，来操纵图象处理的地区或处理方式。-

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