在半导体制造中,许多芯片工艺步骤采用光刻技术,用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜(也称作“掩模”),其作用是:在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖,继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。
选定的图像、图形或对象用于阻挡已处理的图像(全部或部分),以控制图像处理区域或过程。用于覆盖的特定图像或对象称为遮罩或模板。在光学图像处理中,掩模可以是薄膜、滤光器等。在数字图像处理中,掩模是二维矩阵阵列,有时也使用多值图像。
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
菲林在使用中需注意的事项
每一批次的菲林在投入使用之前,都应进行基本密度测试及网点线性化,而后根据测试结果采取相应的工艺措施,如调整激光焦距、曝i光量、显影定影的温度和时间以实现规范化、科学化生产,防止不合格产品产生。
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在容栅电子光学微影技术性中,光罩表层的挡光图样会与基钢板上的光阻层触碰磨擦,非常容易促使挡光图样损耗促使光罩使用期减少。另一个,当施胶光亮阻层的基钢板表层并不是十分整平时,光罩与光阻层会造成不确定性的间隙与间距,掩膜版,而导致光源的光学散射与绕射,从而导致曝i光的规格偏差,而且导致光阻层浅部一部分的侧面曝i光范畴扩张,因此没法制做出深奥长宽比的光阻构造。
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