因为掩膜版是设计构思和生产制造的关键对接，圆晶生产商常有自身的技术***加工厂来生产制造本身必须的掩膜版，光刻板，因而优i秀的掩膜版技术性都是把握在具备优i秀圆晶生产制造焊锡的晶圆厂手上。但近些年掩膜版业务外包的发展趋势十分的显著，非常是针对某些60nm及90nm左右焊锡的中低端商品。业务外包的掩膜版市场占有率从2003年里的30%升高至2014年的53%。

苏州制版位于苏州工业园区生物纳米园，是集研究、设计、生产、销售于一体，***制作高精度掩膜版的企业，拥有高标准的全净化厂房，优i秀的高素质人才、***的研发团队。 苏州制版，面向中小企业、大学、研究所客户，提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版！根据客户的构想、草图，独i家定制版图提供技术咨询服务！

苏州制版提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版，目前投入生产有多台激光直写设备以及电子束曝i光设备。常规铬版CD精度±0.2um，高精石英铬版精度±0.07um。菲林版分辨率20um以上精度±2um。曝i光设备外，还拥有全自动显影柜，可以批量进行显影处理，保证生产能力。在图形检验阶段我们拥有自动光学检验机台（AOI），通过图形逻辑对比分析取样，修补能力1.2um，精度±0.1um。可以有效地排除缺陷问题。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光刻和刻蚀有什么不同？

这2个词是半导体材料加工工艺中的关键流程，必须相互配合剖面图解读，***i好自身找本半导体材料加工工艺的书看。“光刻”就是指在涂上光刻胶的圆晶（或是叫硅片）顶盖上事前搞好的光呆板，随后用紫外光隔着光呆板对圆晶开展必须時间的直射。基本原理就是说运用紫外光使一部分光刻胶霉变，便于浸蚀。“刻蚀”是光刻后，用浸蚀液将霉变的那一部分光刻胶浸蚀掉（正胶），圆晶表层就凸显集成电路工艺以及联接的图型。随后用另这种浸蚀液对圆晶浸蚀，产生集成电路工艺以及电源电路。

光刻板-制版厂由苏州微麦光电有限公司提供。行路致远，砥砺前行。苏州微麦光电有限公司（www.szphotomask.com）致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为其它具影响力的企业，与您一起飞跃，共同成功!