公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
光罩(英文:Reticle, Mask),在制作IC的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型复i制於晶圆上,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时,利用底片将影像复i制至相片上。
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,光刻板,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
Reticle也称为Mask,翻译做光掩模板或者光罩,曝i光过程中的原始图形的载体,通过曝i光过程,这些图形的信息将被传递到芯片上。制造芯片时用.我们公司做的掩膜版,一般是根据客户的要求做的,客户提供图纸我们加工
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为了避免掩模对要蒸发的衬底造成损坏,通常在掩模上设置保护膜,并且保护膜由有机材料制成。当保护膜接触要蒸发的基板时,保护膜对要蒸发的基板造成的损害小于掩模对要蒸发的基板造成的损害。
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