公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
根据金属化全过程,在硅衬底上布局一层层仅数纳米技术厚的金属材料层。随后在这里层金属材料上覆上一层层光刻胶。这层光阻剂在曝i光(通常是紫外光)后能够 被特殊水溶液(显影液)融解。使特殊的纳米越过光掩膜直射在光刻胶上,能够 对光刻胶开展可选择性直射(曝i光)。随后应用前边提及的显影液,融解掉被直射的地区,那样,光掩模上的图型就展现在光刻胶上。一般 还将根据风干对策,改进剩下一部分光刻胶的某些特性。所述流程进行后,就能够 对衬底开展可选择性的刻蚀或离子注入全过程,未被融解的光刻胶将维护衬底在这种全过程中不被更改。
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光刻掩模版通常用石英玻璃做为化学反应,选用方解石是因为其优质的近紫外线穿透率。掩模版遮光一部分用Cr,因此有时候也叫铬板。选用灯的g线应i线,在于你常用的光刻胶,每个光刻胶产品介绍都是列举其所比较敏感的纳米段。
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掩膜(MASK)就是指单片机设计掩膜就是指程序流程统计数据早已制成光刻版,在单片机设计生产制造的全过程中把程序流程做进来。优势是:程序流程靠谱、低成本。缺陷:大批量规定大,每一次改动程序流程就必须再次做光呆板,不一样程序流程不可以一起生产制造,交货期长。
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