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真空镀膜

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

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真空镀膜特点

编辑镀铝薄膜与铝箔复合材料相比具有以下特点：（1）大大减少了用铝量，真空膜，节省了能源和材料，降低了成本，复合用铝箔厚度多为7～9pm，昆山收缩膜，而镀铝薄膜的铝层厚度约为0．05n左右，其耗铝量约为铝箔的1/140～1/180，且生产速度可高达450m/min。（2）具有优良的耐折性和良好的韧性，很少出现***和裂口，昆山真空膜生产，无揉曲龟裂现象，因此对气体、水蒸汽、气味、光线等的阻隔性提高。

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真空镀膜优点

3.在间断式(或称批量式)蒸镀金属法中，昆山真空膜，众所周知其所镀金属的浪费很大，约75%是浪费的。这不但将有用金属，形同废料;而且如前所述在清除一炉生产后剩留于炉中和真空室中的残留物亦颇费周折。与此相反，由于该种设备将在条状材和柑祸之间的金属蒸汽通道设计、制造成有罩式的，可将未蒸镀完的金属蒸汽再循环至柑祸处（不使流散于别处）重复回收使用。

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