6、 沉积减反射层：

沉积减反射层的目的在于减少表面反射，增加折射率。广泛使用PECVD淀积SiN ，由于PECVD淀积SiN时，不光是生长SiN作为减反射膜，同时生成了大量的原子氢，这些氢原子能对多晶硅片具有表面钝化和体钝化的双重作用，可用于大批量生产。

振鑫焱光伏科技有限公司 公司主要服务项目：长期常年***采购硅片回收，电池片回收，原生多晶回收，银浆布回收，单晶硅回收，实验组件价格，多晶硅回收，太阳能电池片回收，光伏组件回收，电子回收，金属回收，电路板回收，蓝宝石回收等。

太阳能电池板制作工艺流程

切片，清洗，实验组件价格，制备绒面，周边刻蚀，去除背面PN 结，制作上下电极，制作减反射膜，烧结，测试分档等10步。（4）磷扩散：采用涂布源（或液态源，或固态氮化磷片状源）进行扩散，制成PN 结，结深一般为0。振鑫焱光伏科技有限公司 公司主要服务项目：长期常年***采购硅片回收，电池片回收，原生多晶回收，银浆布回收，单晶硅回收，多晶硅回收，太阳能电池片回收，光伏组件回收，电子回收，金属回收，电路板回收，蓝宝石回收等。

太阳能电池具体的制作工艺说明

（1） 切片：采用多线切割，将硅棒切割成正方形的硅片。

（2） 清洗：用常规的硅片清洗方法清洗，然后用酸（或碱）溶液将硅片表面切割损伤层除去30－50um。

（3） 制备绒面：用碱溶液对硅片进行各向异性腐蚀在硅片表面制备绒面。

（4） 磷扩散：采用涂布源（或液态源，或固态氮化磷片状源）进行扩散，制成PN 结，结深一般为0.3－0.5um。

（5） 周边刻蚀：扩散时在硅片周边表面形成的扩散层，会使电池上下电极短路，用掩蔽湿法腐蚀或等离子干法腐蚀去除周边扩散层。

（6） 去除背面PN 结。常用湿法腐蚀或磨片法除去背面PN 结。

（7） 制作上下电极：用真空蒸镀、化学镀镍或铝浆印刷烧结等工艺。先制作下电极，然后制作上电极。铝浆印刷是大量采用的工艺方法。

（8） 制作减反射膜：为了减少入反射损失，要在硅片表面上覆盖一层减反射膜。制作减反射膜的材料有MgF2 ，SiO2 ，Al2O3 ，实验组件回收采购收购，SiO

，Si3N4 ，TiO2 ，Ta2O5等。工艺方法可用真空镀膜法、离子镀膜法，溅射法、印刷法、PECVD法或喷涂法等。

（9） 烧结：将电池芯片烧结于镍或铜的底板上。

（10）测试分档：按规定参数规范，测试分类。 生产电池片的工艺比较复杂，一般要经过硅片检测、表面制绒、扩散制结、去磷硅玻璃、等离子刻蚀、镀减反射膜、丝网印刷、快速烧结和检测分装等主要步骤。

第三步，将三十六块电池都像上面步骤那样焊接操作。操作完成后将***长的一条汇流带将三十六块电池串联焊接在一起形成一个电流组件串。然后分好正负极并接出引线。

　　第四步，在准备好的玻璃上面涂一层***，然后将上面做好了的电池串固定在玻璃上，并适当修剪玻璃的大小是否适合电池串，大小适中即可。

　　第五步，给玻璃装上一个镜框，实验组件，以保证电池玻璃组件的强度和密封度，还可以延长电池的使用率。

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