平面抛光是应用柔性抛光对象和磨料颗粒对工件外面停止的润饰加工和去毛刺。抛光不克不及进步工件的尺寸精度或多少外形精度，而因此获得滑腻外面或镜面光芒为目标。平面抛光是寄托异常细小的抛光粉的磨削、滚压感化，撤除试样磨面上的极薄一层金属。

平面抛光时，抛光机上的抛光轮在作高速扭转，操作者将被抛光的制件外面以恰当的压力按压在 抛光轮上，这时候因磨擦感化而发生低温，使被抛光的外面容易发生变形而构成一层“加工变质层”。在扭转着的磨擦力的感化下，一方面外面的某些凸出部门被削去，同时金属制件外面也会发生塑性变形，突出部位被压人，或挪动一段间隔后填人凸起部位。这类削凸填凹的整平进程，以高速率大规模地重复停止，加之抛光膏的光明化感化，成果就使本来较粗拙的制件外面，变得腻滑而光明。1Cr13(410)、2Cr13(420)、3Cr13()、1Cr17Ni2()优点：含碳量高，硬度高。

研磨机属于典型的自动化设备，它的结构包括工件工作台进给机构、工件调整机构、研磨轮进给及压力控制机构和自动控制系统四大部分。研磨加工过程就是利用游离磨粒对零件表面进行刮削和挤压去除材料的过程，达到提高平面度和降低表面粗糙度的目的。

PLC的出现，为研磨机、抛光机的飞跃做出了很大的贡献，可以说是一个质的改变。它取代了传统的继电器，在新的发展中占了很大的比重。它为机器的自动控制，为车间、工厂的生产提高了很大的效率。在平面研磨机上也是采用的PLC程控系统，在很大程度上缩短了出产时间，提高我们的生产效率。也可以很大的节约人工。让研磨抛光变得更加便利。在平面研磨机上也是采用的PLC程控系统，在很大程度上缩短了出产时间，提高我们的生产效率。

抛光和研磨在磨料和研具材料的选择上不同。抛光通常使用的是1μm 以下的微细磨粒，抛光盘用沥青、石蜡、合成树脂、人造革和锡等软质金属或非金属材料制成。在抛光过程中,除机械切削作用外，加工氛围的化学反应起了重要作用。而研磨使用比较硬的金属盘作研具,材料的***以微小破碎为主。二、加工工件不同材质的零件、不同规格的零件、不同要求的零件，也就要求搭配不同的研磨设备与研磨介质。

抛光属于用微细磨粒进行的切削加工,因此抛光过程会产生微小的划痕，生成细微的切屑;磨粒与抛光盘对工件有摩擦作用，使得接触点温度上升，工件表面产生塑性流动,形成凹凸不平的光滑表面;抛光剂中的脂肪酸在高温下会产生化学反应,从工件金属表面溶析出金属皂，它是一种易于切除的化合物，起着化学洗涤作用,使工件表面平坦光滑;加工环境中由于尘埃、***的混人也会产生机械作用。由于这些作用的重叠，以及抛光液、磨粒及抛光盘的力学作用，使得工件表面平滑化。采用工件、磨粒、抛光盘和加工液的不同组合，可实现不同的抛光效果。工件与抛光液、磨料及抛光盘之间的化学反应有助于抛光加工。另外刀具刃口钝化也会造成毛刺过大，刀具管理人员要定期打磨刀片。

按主要化学组成可分为铬不锈钢铬镍不锈钢、铬锰氮不锈钢、铬镍钼不锈钢以及超低碳不锈钢、高钼不锈钢、高纯不锈钢等;: Q2 K9 _8 M) s4 i7 L7 j L% ]

　　奥氏体(A)型不锈钢：奥氏体型不锈钢用200和300系列的数字标示。其显微***为奥氏体。它是在高铬不锈钢中添加适当的镍(镍的质量分数为8%~25%)而形成的。6 x. p5 ^! @ M: N3 s. l5 z x6 C

1Cr18Ni9Ti(321)、0Cr18Ni10(304)、00Cr17Ni14M02(316L)2 T! M( s% Y6 e; d

　　优点：易焊接，可塑性好(不易断裂)，变形多，稳定性好(不易生锈)，易钝化。5 G/ b9 t9 C# u

　　缺点：但对溶液中含有氯离子(CL-)的介质特别敏感，易于发生应力腐蚀。

　　铁素体(F)型不锈钢：400系列的数字表示。它的内部显微***为铁素体，其铬的质量分数在11.5%~32.0%范围内。随着铬含量的提高，其耐酸性能也提高，加入钼(Mo)后，则可提高耐酸腐蚀性和抗应力腐蚀的能力。因为在抛光物件之前首先是需要对物件表面进行电镀前的处理的，这样就可以提高电镀抛光的效果。00Cr12、1Cr17(430)、00Cr17Mo、00Cr30Mo2、Crl7、Cr17Mo2Ti、Cr25，Cr25Mo3Ti、Cr28等