铝合金氧化与电镀的区别

我们这里说铝合金的氧化是阳极氧化，阳极氧化和电镀虽然都是需要通电的，但是两者有本质的区别。

首先来看一下阳极氧化，并不是所有的金属都适合阳极氧化。一般金属合金比较事宜进行阳极氧化处理，而铝材是应用的***为广泛的。阳极氧化是通过把被氧化的金属（铝材）作为阳极，通低压直流电进行电解氧化，使材料表面形成一层致密的氧化膜，这层氧化膜是自身金属的氧化物。

电镀就不一样了，电镀适用于各种金属和非金属的表面处理。只要经过合理的表面处理，各种金属及部分非金属都可以进行电镀。即便它是一片薄薄的树叶，只要经过合理的处理，电子3C产品外壳真空电镀加工，也是可以电镀的。与阳极氧化不同的是，被电镀的材料是作为阴极，镀层金属作为阳极进行通电的，镀层金属以金属离子的状态存在电解液中。通过电荷效应，阳极的金属离子向阴极移动，并沉积在阴极的被电镀材料上。比较常见的镀层金属有金、银、铜、镍、锌等。

由此可见，阳极氧化与电镀都属于表面处理，都可以达到美观，抗腐蚀的效果。两者区别就在于电镀是通过物理效应在原本的材料表面添加另一种金属保护层，而阳极氧化是将金属的表面一层进行电化学氧化。

而铝合金材料***常用的表面处理方式还是阳极氧化，因其阳极氧化表面美观度更好，耐腐蚀性更强，也更易于打理。并且铝合金材料可以氧化着色，以得到各种想要的颜色。

真空镀膜中关于靶材***的原因

靶***现象

(1)正离子堆积：靶***时，靶面形成一层绝缘膜，正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡，不能直接进入阴极靶面，而是堆积在靶面上，容易产生冷场致弧光放电---打弧，使阴极溅射无法进行下去。（2）阳极消失：靶***时，接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜，到达阳极的电子无法进入阳极，形成阳极消失现象。

靶***的物理解释

（1）一般情况下，金属化合物的二次电子发射系数比金属的高，靶***后，靶材表面都是金属化合物，在受到离子轰击之后，释放的二次电子数量增加，提高了空间的导通能力，降低了等离子体阻抗，导致溅射电压降低。从而降低了溅射速率。一般情况下磁控溅射的溅射电压在400V-600V之间，当发生靶***时，溅射电压会显著降低。（2）金属靶材与化合物靶材本来溅射速率就不一样，电子3C产品外壳真空电镀工艺，一般情况下金属的溅射系数要比化合物的溅射系数高，绍兴电子3C产品外壳真空电镀，所以靶***后溅射速率低。（3）反应溅射气体的溅射效率本来就比惰性气体的溅射效率低，所以反应气体比例增加后，综合溅射速率降低。

靶***的解决办法

（1）采用中频电源或射频电源。（2）采用闭环控制反应气体的通入量。（3）采用孪生靶（4）控制镀膜模式的变换：在镀膜前，电子3C产品外壳真空电镀厂家，采集靶***的迟滞效应曲线，使进气流量控制在产生靶***的前沿，确保工艺过程始终处于沉积速率陡降前的模式。

真空电镀生产在现代制造业中仍据有一席之地这一事实，说明电镀技术是可以跟进高新技术工业的提高的。这种模式要求电镀生产单位不仅仅是从电镀工艺和环境保护的角度来制定方案，而且要从合理的能源结构、资源的节省和再利用多方面为可持续发展留有充分的余地，好比，基本上将采用水的无排放技术，也就是所谓的。

可持续发展的电镀产业模式，是综合了电镀生产资源的节约和环境保护、效率进步等多种因素的电镀生产模式。今后的真空电镀加工单位的设置和设计，都要采用这种模式，是比流行的“三同时”要求更进一步的电镀生产模式。这种综合处理废水的新的综合利用模式，在电能充分的前提下是完全可能的。

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