净室***主要之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为洁净室。按照国际惯例，10万级净化车间标准，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，食品净化车间，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负i面影响，所以在光学构造产品的生产上，净化车间工程，无尘是必然的要求。

自净时间：是指洁净室按设计换气次数开始送风到洁净室，室内含尘浓度达到所设计的净化级别的时间。 1，000级希望不超过20min(分钟) (可取15min计算) 10，000级希望不超过30min(分钟) (可取25min计算) 100，000级希望不超过40min(分钟) (可取30min计算)

换气次数（按上述自净时间要求设计）1，吉安净化车间，000级 43.5—55.3次/小时 (规范:50次/小时) 10，000级 23.8—28.6次/小时 (规范:25次/小时) 100，000级 14.4—19.2次/小时 (规范:15次/小时)

世界各国均有自定规格，但普遍还是用美国联邦标准209为多，以下仅就209D及209E和世界上其它各国制定标准作介绍与相互比较。209E与209D等***z大之不同在于209E表示单位增加了公制单位，洁净室等级以‵M′字头表示，如M1、M1.5、M2.5、M3…..依此类推，配合国际公制单位之标准化，M字母后之阿拉伯数目字是以每立方公尺中gt;=0.5μm之微尘粒子数目字以10的幂次方表示，取指数为之，若微尘粒子数介于前后二者完全幂次方之间，则以1.5、2.5、3.5….表示。

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