粗抛目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有z大的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不外也应当尽可能小;其次是精抛或称终抛,罐体抛光厂商,其目的是去抛光机除粗抛产生的表层损伤,罐体抛光报价,使抛光损伤减到z小。解决这个矛盾的z好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。
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机械镜面抛光是在金属材料上经过磨光工序(粗磨、细磨)和抛光工序(WENDT三步抛光)从而达到平整、光亮似镜面般的表面。
一、磨光工序
磨光的目的是为了获得平整光滑的磨面。此时磨面上还留有极细而均匀的磨痕。磨光分为粗磨和细磨两种。
1.粗磨 粗磨是将粗糙的表面和不规则外形修正成形。
2.细磨 经过粗磨后金属表面尚有很深的磨痕,需要在细磨中消除,罐体抛光供应,为抛光做准备。
二、表面抛光工序
抛光工序是为了获得光亮似镜的表面加工过程。多数采用抛光轮来反复磨光后的零件表面上极微小的不平,通用于镀层表面的修饰。
抛光是镀层表面或零件表面***后—道工序,其目的是要消除在磨光工序后还残留在表面上的细微磨痕。理想的抛光面应该是平整、光亮、无痕、无浮雕、无坑、无金属扰乱层的似镜面状态的表面。经过磨光与抛光后的磨面变化。
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