电磁场 PLL
作者:欧普兰2020/5/11 20:58:34

物理层面降低器件或走线电容比较困难, 需要设法将电容电气特性规避掉, 来解决问

题。 Kleveland 等人设计出分布式 ESD 保护系统, 如下图, 一个四段 ESD 保护结构 CPW, 这

种结构通过调整 CPW 特征阻抗 Z0, 来和源端、 负载端进行阻抗匹配, 避免了早期 ESD 大电

容引起的阻抗不连续。 Z0 调整不但考虑 CPW 的电容、 电感效应, 还要包括 ESD 电容, 具体

计算公式为: Z0=sqrt(Lcpw/(Cesd ***w))。




允许用户自行转化ITF/IRCX格式的工艺制程文件,生成包含介质层、金属和衬底信息以及图层映射信息的profile文件来进行电磁场和器件综合;

Profile文件中包含了介质、金属层、衬底等的物理特性,包含了间距和宽度等基本设计规则,以及与virtuoso布局之间的层映射信息。

软件转换profile时,考虑到Foundries的加工版图效应,所以会在profile中调用Foundries的版图效应表,保证结果尽量和实际测量结果更为接近。

软件提供完整的profile生成流程说明文档或者手册,保证用户可以自主完成转换。









PeakView产品应用方向与领域:

1.射频、微波、毫米波集成电路设计:

5G通讯、物联网、毫米波雷达、通信、消费电子、传感器、WIFI,蓝牙、北斗导航等领域

2.高速模拟电路设计与验证:AD/DA、Serdes

合作伙伴及主要客户

PeakView自诞生(2003年)至今已有将近17年的历史,现在已经发展成为******的EM软件,与各大Foundry以及Fabless保持着紧密的合作,通过客户的大量验证与反馈,软件功能也在不断地丰富,PeakView平均每2个月就会release一个版本。

主要的客户有:

1.Foundry用户:T***C、T***C,Global Foundries,Samsung,Vanguard,Jazz,UMC 等;

2.Fabless:高通、TI、Inphi、IDT、华为、ZTE、紫光展锐等;

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