磁控溅射技术镀膜

磁控溅射技术镀膜是一种重要的物理的气相沉积镀膜技术，这种工艺可工业化批量生产。本文***探讨了磁控溅射在光学镀膜中的应用，包括膜层设计和镀膜工艺。

光学镀膜设计

（1）减反射膜

减反射也称增透膜，这种膜主要镀在透明低折射率基底上，如玻璃上镀减反射膜，常见的膜层结构采用高、低折射率膜层叠加而成

（2）彩色镀膜 彩色镀膜主要也是在玻璃等透明基底上镀膜，其膜层材料和结构类似减反射镀膜。这种玻璃在可见光下透射和反射的颜色不同。

3）渐变反射膜 渐变反射膜是一种在不同角度观察，反射的颜色不同的膜层。这种膜层可以镀在玻璃，也可以镀在金属基底。

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磁控溅射中靶zhong毒是怎么回事,一般的影响因素是什么？

靶zhong毒的影响因素

影响靶zhong毒的因素主要是反应气体和溅射气体的比例，反应气体过量就会导致靶zhong毒。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。适合镀制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率，化合物覆盖面积增加。在一定功率的情况下，参与化合物生成的反应气体量增加，化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度，化合物覆盖面积增加，如果不能及时调整反应气体流量，化合物覆盖面积增加的速率得不到***，溅射沟道将进一步被化合物覆盖，当溅射靶被化合物全部覆盖的时候，靶完全zhong毒。

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磁控溅射

磁控溅射法是在高真空充入适量的ya气，在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁) 之间施加几百K 直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使ya气发生电离。

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