真空离子镀膜机的自动化发展

真空离子镀膜机是太阳能真空管生产的关键设备，随着自动化技术的发展，其工艺要求及自动化程度也越来越高。

开始的真空离子镀膜机控制系统采用继电器控制，由模拟线路板及单片机等电路组成实现控制功能，因线路繁杂以及电子元器件的不稳定造成设备性能的不稳定，并且给维修工作带来很大困难，另外操作界面不直观，误操作现象时有发生。

目前，真空离子镀膜机已广泛采用PLC可编程器设计控制系统，该技术已相当成熟，基本取代了单片机，并采用***的人机界面触摸屏进行更加直观的人机对话，可方便地设定参数，由控制系统按工艺流程分步或自动运行，具有各种系统保护以及故障提示、报警信息等功能，并且通过利用PLC通讯功能，与上位机通讯，实现对真空离子镀膜机工艺流程的全程监控，以便工程师及时发现并处理故障信息以及远程修改工艺参数等，较大地方便了生产过程质量控制和管理。

真空电镀机维修注意事项

在制造时候，由于成品是需要在较高的真空度下进行镀膜的。所以制造时要严格保证真空电镀机的密封性，密封性足够才能形成真空环境。

由于很多的真空电镀机会采用溅射的方式进行镀膜，所以在使用的过程中带有一定的***性，所以要求操作人员必须拥有一定的同类产品操作经验和严格的安全防护措施。

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磁控溅射镀膜设备溅射方式

绕镀能力强

离子镀时，蒸发料粒子是以带电离子的形式在电场中沿着电力线方向运动，因而凡是有电场存在的部位，均能获得良好镀层，这比普通真空镀膜只能在直射方向上获得镀层优越得多。因此，这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽和窄缝。等其他方法难镀的部位。用普通真空镀膜只能镀直射表面，蒸发料粒子尤如攀登云梯一样，只能顺梯而上；而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中，带电离子则好比坐上了直升飞机，能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。

主要的镀膜溅射方式有哪些？

磁控溅射镀膜设备在目前镀膜行业中是一种不可缺少的镀膜器材，目前大部分镀膜企业都会有使用到。我们平日生产的时候都是由机器生产，那么大家知道目前的磁控镀膜设备主要的溅射方式有哪几种么？下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。

磁控溅射镀膜设备原理解析

主要的磁控溅射镀膜设备可以根据其特征分为以下四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.

现在的直流溅射（也叫二级溅射）较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点.

直流溅射发展后期,人们在其表面加上一定磁场,磁场束缚住自由电子后,以上缺点均有所改善,也是现阶段广泛应用的一种溅射方法.

CCZK-SF磁控溅射镀膜设备

而后又有中频溅射,提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材等现象.

而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料.沉积的膜层致密,附着力良好.

如果寻找本质区别是：直流溅射是气体放电的前期,而射频是后期,我们常见的射频是电焊机.溅射过程所用设备的区别就是电源的区别.

以上就是主要的磁控溅射镀膜设备的溅射方式，希望本文能够让用户对设备更加了解。