溅射镀膜机溅射镀技术应用
蒸发镀应用新型电极 引入装置,接触电阻小且可靠;磁控溅射应用镀膜材料广泛,各种非导磁的金属、合金均可作镀料;结构紧凑、占地面积小;磁控、蒸发共用两台立式工件车,操作 方便、。 (或双门蒸发、磁控两用机) 公司业务范围真空镀膜成套设备与技术,真空工程用各种泵、阀、真空计、油、脂、密封件,真空镀膜材料、涂料、金属及合金制品。真空设备故障诊断与排除、老 产品改造。新型塑料、金属、玻璃等制品表面处理工艺及技术研究,咨询服务。新技术、新设备、新工艺公司新开发的磁控、蒸发多用镀膜机,配用改进型高真空抽气系统及全自动控制系统,抽速快、效率高、操作简单、工作可靠。新技术、新设备、新工艺公司新开发的磁控、蒸发多用镀膜机,配用改进型高真空抽 气系统及全自动控制系统,抽速快、、操作简单、工作可靠;具有可镀膜系广、膜层均匀、附着力好、基板温度底等特点;是镀制金属、合金及化合物膜的理 想设备;适合镀制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已广泛应用在光学、电子、通讯、航空等领域。
磁控溅射种类
用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体,和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵,溅射速率很小,同时接地技术很复杂,因而难大规模采用。为解决此问题,发明了磁控反应溅射。就是用金属靶,加入Ar和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化,与反应气体化合生成氮化物或氧化物。离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面,也发生在阳极,真空腔体表面,以及靶源表面。从而引起灭火,靶源和工件表面起弧等。其原理是一对靶源互相为阴阳极,从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源(磁控,多弧,离子)所必需,因为能量很大一部分转为热量,若无冷却或冷却不足,这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。
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磁控溅射镀膜机的优势
1.实用性:设备集成度高,结构紧凑,占地面积小,可以满足客户实验室空间不足的苛刻条件;通过更换设备上下法兰可以实现磁控与蒸发功能的转换,实现一机多用;
2.方便性:设备需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接线及安装调试简单,既保证了设备使用方便又保证了设备的整洁;
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