感应耦合等离子体刻蚀机原理-创世威纳
作者:创世威纳2020/8/24 2:41:39






感应耦合等离子体刻蚀机的结构三

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供气系统供气系统是向刻蚀腔体输送各种刻蚀气体,通过压力控制器(PC)和质量流量控制器(MFC)精准的控制气体的流速和流量。气体供应系统由气源瓶、气体输送管道、控制系统、混合单元等组成。

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感应耦合等离子体刻蚀机的结构四

真空系统真空系统有两套,感应耦合等离子体刻蚀机原理,分别用于预真空室和刻蚀腔体。预真空室由机械泵单独抽真空,只有在预真空室真空度达到设定值时,感应耦合等离子体刻蚀机安装,才能打开隔离门,感应耦合等离子体刻蚀机品牌,进行传送片。刻蚀腔体的真空由机械泵和分子泵共同提供,刻蚀腔体反应生成的气体也由真空系统排空。

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感应耦合等离子体刻蚀机的结构二

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刻蚀腔体刻蚀腔体是ICP 刻蚀设备的核心结构,重庆感应耦合等离子体刻蚀机,它对刻蚀速率、刻蚀的垂直度以及粗糙度都有直接的影响。刻蚀腔的主要组成有:上电极、ICP 射频单元、RF 射频单元、下电极系统、控温系统等组成。

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