离子属刻蚀机的注意事项
创世威纳——***离子束刻蚀机供应商,我们为您带来以下信息。
#.在设备工作时,禁止扶、靠设备,离子束刻蚀机原理,禁止触摸高频电缆和线圈,以免发生意外
#.高频电源实际使用功率不能超过较大限制#.检查设备时,必须关机后切断电源
#. 工作场地必须保持清洁、干燥,设备上及设备周围不得放置无关物品,离子束刻蚀机哪家好,特别是易1燃、易1爆物品
#.长期停放时注意防潮,拆除电源进线,每隔3-5天开一次机,保证反应室真空以免被污 染
#.设备停机、过夜也要保持反应室真空,如停机较长时间后再进行刻蚀工艺,需***行一次空载刻蚀,再刻蚀硅片
刻蚀工艺过程
以下内容由创世威纳为您提供,今天我们来分享刻蚀工艺过程的相关内容,离子束刻蚀机价格,希望对同行业的朋友有所帮助!
等离子体刻蚀工艺包括以下六个步骤。 分离: 气体由等离子体分离为可化学反应的元素; 扩散: 这些元素扩散并吸附到硅片表面; 表面扩散:到达表面后, 四处移动; 反应: 与硅片表面的膜发生反应; 解吸: 反应的生成物解吸,离子束刻蚀机, 离开硅片表面; 排放: 排放出反应腔。
离子束刻蚀速率
创世威纳——***离子束刻蚀机产品供应商,我们为您带来以下信息。
刻蚀速率是指单位时间内离子从材料表面刻蚀去除的材料厚度,单位通常为A/minnm/min.刻蚀速率与诸多因素有关,包括离子能量、束流密度、离子入射方向、材料温度及成分、气体与材料化学反应状态及速率、刻蚀生成物、物理与化学功能强度配比、材料种类、电子中和程度等。
版权所有©2024 产品网