离子属刻蚀机的注意事项

创世威纳——***离子束刻蚀机供应商，我们为您带来以下信息。

#.在设备工作时,禁止扶、靠设备，禁止触摸高频电缆和线圈，以免发生意外

#.高频电源实际使用功率不能超过较大限制#.检查设备时，必须关机后切断电源

#. 工作场地必须保持清洁、干燥，设备上及设备周围不得放置无关物品，特别是易1燃、易1爆物品

#.长期停放时注意防潮，拆除电源进线，每隔3-5天开一次机，保证反应室真空以免被污 染

#.设备停机、过夜也要保持反应室真空，如停机较长时间后再进行刻蚀工艺，需***行一次空载刻蚀，再刻蚀硅片

刻蚀过程

普通的刻蚀过程大致如下：先在表面涂敷一层光致抗蚀剂，然后透过掩模对抗蚀剂层进行选择性***，由于抗蚀剂层的已***部分和未***部分在显影液中溶解速度不同，经过显影后在衬底表面留下了抗蚀剂图形，以此为掩模就可对衬底表面进行选择性腐蚀。如果衬底表面存在介质或金属层，则选择腐蚀以后，图形就转移到介质或金属层上。

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离子束刻蚀

利用低能量平行Ar 离子束对基片表面进行轰击，表面上未被掩膜覆盖部分的材料被溅射出，从而达到选择刻蚀的目的，它采用纯物理的刻蚀原理。离子束刻蚀是目前所有刻蚀方法中分辨率较高，陡真性较好的方法，它可以对所有材料进行刻蚀，例如：金属、合金、氧化物、化合物、混合材料、半导体、绝缘体、超导体等。

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