浅谈离子镀膜机应用的几个特点

镀层附着性能好

普通真空镀膜时，蒸发料粒子大约只以一个电子伏特的能量向工件表面蒸镀，在工件表面与镀层之间，形成的界面扩散深度通常仅为几百个埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是说比一根头发丝的百分之一还要小。两者间可以说几乎没有连接的过渡层，异形工件镀膜设备原理，好似截然分开。而离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能。如果说普通真空镀膜的粒子相当于一个气喘吁吁的长跑运动员，那么离子镀的粒子则好似乘坐了高速火箭的乘客，异形工件镀膜设备，当其高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特别牢。对离子镀后的试件作拉伸试验表明，一直拉到快要断裂时，镀层仍随基体金属一起塑性延伸，无起皮或剥落现象发生。可见附着得多么牢固啊！

镀膜机厂家介绍光学监控法的特点

真空镀膜机膜厚的监控方法较多，目前较新的方法是光学监控法，其相对于的传统的石英晶体微量平衡法来说，光学监控法更具有准确性，异形工件镀膜设备工作原理，因为传统的测试的方法很难阻止传感器跌入这个敏感区域，从而对膜层造成较大的误差。下面镀膜机厂家就来为大家介绍一些光学监控法的特点。

光学监控法可以有效提高光学反应对膜厚度变化灵敏度的理论和方法来减少误差，提供了反馈或传输的选择模式和大范围的监测波长，光学监控法非常适合于各种膜厚的镀膜监控包括非规整膜监控。能够更准确地控制膜层厚度 。

上述所说就是镀膜机厂家为大家介绍的光学监控法的一些特点，而从中我们不难看出光学监控相比传统的监控法来说是一种更适合对真空镀膜机膜厚的监测方法。

真空电镀机行业发展优势

真空电镀机对环境的要求，一般包括真空设备对所处实验室(或车间)的温度、空气中的微粒等周围环境的要求，和对处于真空状态或真空中的零件或表面要求两个方面。这两个方面是有密切联系的。周围环境的好坏直接影响真空设备的正常使用;而真空设备的真空室或装入里面的零件是否清洗，又直接影响设备的性能。如果空气中含有大量的水蒸气和灰尘，在真空室没有经过清洗的情况下用油封机械泵去抽气，要达到预期的真空度很难的。众所周知，油封式机械泵不宜抽除对金属有腐蚀性、对真空油其反应的以含有颗粒尘埃的气体。水蒸气为可凝性气体，当大量抽除可凝性气体时，对泵油的污染会更加严重，结果使泵的极限真空下降，异形工件镀膜设备厂家，***了泵的抽气性能。口巨业环境中的粉尘是以粉状体、眼无题、粉尘来区分的。粉状体是粉末或固体颗粒的集合或分散状态的物质。所谓粉末是指微小的固体颗粒的集合，而颗粒是指能够一个一个计数的微小物质。烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态存在于气体中的物质体系。物质无论是固体还是液体，凡是呈颗粒状态均可统称为尘粒。以尘粒直径的大小来确定空气清洁度的标准，从而定制出洁净室的等级。不仅适合于有洁净要求的口巨业部门，也适合于真空对洁净环境的要求。

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