蒸发镀膜

蒸发镀膜常称真空镀膜。其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。PVD工艺的首要条件是在真空条件下操作,因为限量以上的残余气体会影响膜的成分和性质。为了实现镀膜工艺，要求残余气体的压力为0.1～1Pa。

蒸发技术分为间歇蒸发与连续蒸发、直接电阻加热蒸发和间接电阻加热蒸发,连续生产与制造厚膜时采用连续蒸发加热。一个入射的蒸气原子在表面的滞留时间中,原子不断地扩散形成不均匀的成核作用，随着蒸气原子不断地冲击表面,各个核都在增长，相邻各核开始接触进入聚结阶段，直到形成连续膜。也可把上述过程划分为小岛阶段、网络阶段、孔阶段及连续膜阶段。

真空蒸发镀膜技术

蒸发热力学液相或固相的镀料原子或分子要从其表面逃逸出来，必须获得足够的热能，有足够大的热运动。当其垂直表面的速度分量的动能足以克服原子或分子间相互吸引的能量时，才可能逸出表面，完成蒸发或升华。加热温度越高，分子动能越大，蒸发或升华的粒子量就越多。蒸发过程不断地消耗镀料的内能，要维持蒸发，就要不断地补给镀料热能。显然，蒸发过程中，镀料汽化的量(表现为镀料上方的蒸气压) 与镀料受热(温升) 有密切关系。因此，镀层生长速度与镀料蒸发速度密切相关。